KARAKTERISASI PEMBENTUKAN LAPISAN TIPIS KOMPOSIT Ni-TiAlN/Si3N4 DENGAN METODE ELEKTRODEPOSISI
Agung Septian Ardi Prakoso, Dr. Esmar Budi M.T, Dr. Widyaningrum M.Si

Jurusan Fisika Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam Universitas Negeri Jakarta

Abstract

Telah dilakukan pembentukan lapisan tipis komposit Ni-TiAlN/Si3N4 dengan metode elektrodeposisi pada substrat Tungsten Karbida. Sebanyak larutan elektrodeposisi 5mL yang terdiri dari 2 gr/l AlN, 2 gr/l TiN, 0.49 Mol/l H3BO3, 0.17 M NiCl2.6H2O, 0.38 M NiSO4.6H2O, Sodium Dodecyl Sulfate (NaC12H25SO4), dan 140,28g/mol Si3N4. Proses pelapisan berlangsung selama 15 menit dengan arus listrik sebesar 0.5mA. Penelitian ini menggunakan Scanning Electron Microscopy (SEM) yang menunjukkan struktur dan morfologi lapisan tipis komposit Ni-TiAlN/Si3N4 yang terbentuk.

Topic: PHYS2 Material Physics

PermaLink: http://snf2018.interconf.org/kfz/pages/abstract.php?id=123