Analisis Morfologi lapisan komposit Ni-AlN/ Si3N4 dengan variasi konsentrasi Si3N4
Nurul Fathia (*), Esmar Budi (1), Widyaningrum Indrasari (1)

1) Jurusan Fisika, Universitas Negeri Jakarta
Jl. Pemuda No. 10 Rawamangun, Jakarta Timur
13220

*Email : nurulfathia91[at]gmail.com

Abstract

Telah dilakukan pembentukan lapisan komposit Ni-AlN/Si3N4 dengan variasi konsentrasi Si3N4 20 g/l, 30 g/l, dan 40 g/l. Pada penelitian ini lapisan komposit terbentuk pada substrat Tungsten Karbida pada arus 4.0 mA selama 15 menit menggunakan metode elektrodeposisi. Komposisi larutan elektrolit terdiri dari 0,17 M NiCl2.6H2O, 0,38 M Ni2SO4.6H2O, 0.49 M H3BO3, 0,6 g/l SDS, dan 4 g/l AlN. Lapisan-lapisan komposit ini dikarakterisasi menggunakan Scanning Electron Microscopy (SEM). Hasil menunjukkan variasi konsentrasi Si3N4 mempengaruhi perbedaan morfologi permukaan lapisan komposit yang terbentuk.

Topic: PHYS2 Material Physics

PermaLink: http://snf2018.interconf.org/kfz/pages/abstract.php?id=101